企业等级: | 普通会员 |
经营模式: | 生产加工 |
所在地区: | 安徽 合肥 |
联系卖家: | 陈经理 先生 |
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公司地址: | 安徽省合肥市瑶海区凤阳路恒丰大厦A座2112室 |
发布时间:2020-07-30 12:24:30
制药工厂空气净化系统的主要用途
制药工厂空气净化系统的主要用途是防止产品和洁净区 受到微生物污染,防止用于制药生产的病毒、致病菌和芽孢菌的扩散和污染,防止诸如青或其他高活性***的扩散和污染,防止固体粉尘的扩散污染。制药厂房 所提供的空气质量将直接影响在该环境中生产***的微粒和微生物污染的水平,进而直接影响***生产的质量。空气净化系统是一个动态系统,需要关注系统的运行 状态。空气净化系统有两种观念:一是正压控制,防止外界空气对环境的影响;二是负压控制,防止生产过程中产生的微粒污染扩散。洁净***部内地面应平整,采用耐磨、防滑、耐腐蚀、易清洗、不易起尘与不开裂的材料制作。空调设计、安装和运行应满足 不同的目的,所以系统需要严格测试、控制和验证。
精密电子洁净工程介绍
精密电子净化工程亦名无尘室或清净室,目前已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生***学、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近几年来,由于技术之创新发展,对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切,如超大型积体电路之研究制造,已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目,而我公司的设计理念及施工技术在行业中则处于地位。静电场中的阴极线在高压静电的作用下,产生电晕放电,电晕层中产生大量的负离子,负离子在静电场的作用下,不断地向阳极运动。
哪些企业需要净洁车间工程:科技行业 一般高科技行业都需要净化车间工程,这样可以有效的保证净化车间内不会被带入很多的粉尘,对于防静电有很大的帮助。像航空航天行业、电子制造行业、光电技术行业、生物工程行业等对净化车间工程的要求都比较高。洁净室的洁净度往往受到气流的影响,换言之,即人、机器隔间、建筑结构等所产生的尘埃之移动、扩散受到气流的支配。洁净室系利用HEPA1、ULPA1过滤空气,其尘埃的收集率达99.97~99.99995%之多,因此经过此过滤器过滤的空气可说十分干净。然而洁净室内除了人以外,尚有机器等之发尘源,这些发生的尘埃一旦扩散,即无法保持洁净空间,因此必须利用气流将发生的尘埃迅速排出室外。洁净空间的技术要求:围护结构框架要求:①框架应预成并力争产品化,并可灵活装配;洁净工程的行业应用洁净工程是一个应用行业非常广泛的基础性配套产业,(21世纪)在电子信息、半导体、光电子、精密制造、卫生、生物工程、航天航空、汽车喷涂等众多行业均有应用,并根据行业的精密与无尘要求,等级差别也较大。②框架变形量要符合***标准;③保证足够的强度和刚性,表面处理应满足相关要求。围护复合面板要求:①复合板的表面应符合GB/T 29468的要求;②基板宜为金属或树脂板材,基材应选用不燃性能为级的不燃材料;③用作外墙和吊顶时,在使用过程中表面不应产生冷桥和结露现象;④应适应防护、电磁屏蔽等特殊要求,围护模块应适应性的一体化定制预成。
洁净空间的技术要求:围护结构框架要求:①框架应预成并力争产品化,并可灵活装配;②框架变形量要符合***标准;③保证足够的强度和刚性,表面处理应满足相关要求。围护复合面板要求:①复合板的表面应符合GB/T 29468的要求;②基板宜为金属或树脂板材,基材应选用不燃性能为A1级的不燃材料;围护结构系统:简单说是顶、墙、地三部分,即组成三维密闭空间的六个面。③用作外墙和吊顶时,在使用过程中表面不应产生冷桥和结露现象;④应适应防护、电磁屏蔽等特殊要求,围护模块应适应性的一体化定制预成。洁净空间的技术要求:连接与转接件要求:①围护结构用的转接件与连接件应有足够的可靠性与承载力;②墙与顶、墙与墙、顶与顶之间的交接处应有合理的结构,保证密封,防止开裂;③易于拆卸和***,以便于进行清洁、检查和试验,所有可拆卸的连接件在拆卸后应易于用手工连接和紧固。密封件的要求:①拼缝一般采用嵌入式材料密封,密封材料烟气毒性的安全级别不低于GB 20285-2006规定的ZA12级;具有离火自熄性,自熄时间不大于5s;②围护结构间的缝隙和在围护结构上固定、穿越形成的缝隙,各种管路、线路与围护结构的接口应密封;③门与门框、柜体、控制复合板等之间的密封应符合GB 50591-2010 《洁净室施工及验收规范》具体条款的相关要求;④密封胶条公差为±0.3mm, 收缩率:≤0.5%。具备弹性回复能力。洁净工程的发展:20世纪80年代大规模集成电路和超大规模集成电路的迅速发展,大大促进了洁净工程的发展,集成电路生产工程从64K位到4M位,特征尺寸从2.04m到0.84m。当时根据实践经验,通常空气洁净受控环境的控制尘粒粒径与线宽的关系为1:10,因此洁净工程工作者研制了超空气过滤器,可将粒径gt;0.1pm的微粒去除到规定范围。根据大规模、超大规模集成电路生产的需要,高纯气体、高纯水和高纯***的生产工程也得到很快的发展,从而使服务于集成电路等高工程产品所需的洁净工程都得以高速发展。
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